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公司新闻

洁净厂房气态分子污染综合治理 空调箱 MAU 机组 AMC 去除

2026-07-30

在半导体、先进封装、面板显示、锂电新能源、精密光学等高等级洁净车间,大家普遍关注颗粒物管控,依靠 HEPA/ULPA 高效滤网实现粉尘管控,却常常忽视空气中AMC 气态分子污染物这一隐形良率杀手。AMc 分子尺寸远小于粉尘颗粒,普通高效过滤器完全无法拦截,ppb 级微量酸性气体、碱性气体、VOC 有机挥发物,就会造成晶圆腐蚀、光刻胶图形畸变、薄膜缺陷、面板黑点、电池材料一致性变差,带来批量产品不良,直接拉低生产良率。

MAU 新风空调箱作为洁净厂房空气第一道关口,室外大气带入的外来 AMC 是厂房最主要污染源之一。在空调箱内部配置 AMC 去除模块,从源头削减气态污染物,是整套洁净环境管控的基础核心措施。

一、什么是 AMC,主要来源与危害

AMC 全称 Airborne Molecular Contamination,即空气中气态分子污染物,按照 SEMI‑F21 标准主要分为四大类:酸性气体、碱性气体、可冷凝有机物、掺杂类污染物。

  • 酸性气体 MA:HCl、HF、SO₂、NOₓ、H₂S,来自城市工业废气、机动车尾气,极易腐蚀晶圆、金属线路、光学镜头;

  • 碱性气体 MB:NH₃氨气、胺类、NMP,会造成光刻胶 T‑topping(蘑菇头)缺陷,直接破坏光刻制程;

  • 有机污染物 MC:硅氧烷、各类 VOC 溶剂,容易凝结在工件表面形成有机薄膜,影响镀膜、键合工艺;

  • 掺杂污染物 MD:硼、磷等气态杂质,干扰半导体电学性能,造成器件性能漂移。

AMC 两大来源

  1. 外源污染(新风):城市大气环境,通过 MAU 空调箱新风直接进入厂房,是最主要输入渠道;

  2. 内源污染(车间内部):生产制程挥发、洁净室材料释气、化学品挥发、人员挥发,依靠循环空调箱、FFU 进行二次处理。

重点提醒:高效过滤器只能过滤颗粒物,无法去除气态分子,即便洁净度达到 Class1、Class10,依然会出现 AMC 超标,造成产品报废。

二、空调箱 MAU 实现 AMC 去除主流技术路线

针对空调箱机组,目前行业有两条成熟技术路线:干式化学过滤、水洗喷淋洗涤(工业水洗加湿一体化),两种方案各有适用工况,也可以组合使用。

路线 1:干式化学过滤(新建厂房主流标配)

在 MAU 空调箱初效、中效之后,表冷 / 加热段之后,高效之前预留化学过滤段,安装 V 型 / 箱式化学过滤器模块。滤料搭载专用化学浸渍吸附介质,通过化学中和、催化反应,不可逆吸附固化酸性、碱性、有机气体;污染物被固定在滤料内部,不会随温湿度变化脱附造成二次污染。

优势

  1. 处理精度高,适合 ppb 级别微量污染,满足先进制程严苛标准;

  2. 设备结构紧凑,直接嵌入原有空调箱内部,无需额外土建,不增加大量水系统;

  3. 无废水排放,系统简单,可 24 小时连续运行;

  4. 滤料配方可按需定制:酸性滤料、碱性滤料、广谱复合滤料,匹配现场污染物检测结果。

局限属于耗材型产品,滤料存在吸附饱和周期,需要定期检测、定期更换,运行成本取决于污染物浓度。

路线 2:水洗洗涤式(水洗加湿器一体化,兼顾加湿 + 部分 AMC 预处理)

也就是工业水洗加湿器,利用水幕喷淋,空气和水体充分接触,可溶解吸收部分可溶于水的酸性、碱性气态污染物,同时完成等焓加湿,一套设备同时实现加湿、除尘、简易 AMC 预处理。

优势

  1. 一套设备兼顾加湿 + 预洗涤,减少空调箱内部设备段数;

  2. 对高浓度水溶性酸碱气体具备不错的去除效果;

  3. 运行成本低,以水作为处理介质。

局限

  1. 对非水溶性 VOC、硅氧烷处理能力很差,无法单独满足先进半导体车间 AMC 指标;

  2. 需要做好水质管控、排污,防止水箱滋生微生物、盐分挥发二次带入系统;

  3. 仅适合作为前端预处理,不能替代干式化学过滤器,高等级洁净车间必须后端配置化学过滤。

工程实操建议:高等级洁净厂房优先采用:水洗预洗涤 + 干式化学过滤组合方案,水洗先去除大部分水溶性酸碱,降低后端化学过滤器负荷,延长化学滤料使用寿命,综合优化初投资和运维成本。

三、空调箱 AMC 去除,正确安装位置怎么选

1、MAU 新风空调箱(外源污染第一道防线,最重要)

推荐安装位置:初效→中效→【水洗洗涤段(可选)】→化学过滤段→表冷加热→亚高效 / 高效→送风至洁净室。新风在进入车间之前,就把室外带入的 AMC 提前处理达标,从源头降低洁净室污染负荷,减轻 FFU 末端过滤压力。

2、RAU 循环空调箱(处理车间内源释放污染)

针对车间工艺持续挥发的污染物,在循环空调箱回风侧设置化学过滤段,持续净化循环空气,降低车间内部 AMC 本底浓度,减少新风换气次数,节约空调能耗。

补充:末端 FFU 化学过滤

光刻、键合等关键微环境,在 FFU 风机单元增加超薄化学过滤模块,做最后一道防护,保障工艺点位局部 AMC 达标,和空调箱系统配合形成三级防护体系。

四、选型实施关键要点,避开工程误区

① 先检测,再选型,拒绝盲目采购

现场采样检测,明确厂房主要超标污染物种类、浓度。只知道 “要除 AMC” 直接随便采购广谱滤料,往往出现过滤效率不足、滤料寿命大幅缩短,项目达不到预期效果。

② 保证气体停留接触时间

化学过滤必须保证气体与滤料足够接触时间,一般建议≥0.1s;单纯追求低阻力、超薄滤料,风量过大,气体接触时间不足,去除效率直接暴跌。改造项目切忌随意放大空调箱风量,超出化学过滤设计工况。

③ 重视密封,杜绝旁路泄漏

空调箱箱体、过滤器框架、检修门漏风,未经过滤的空气直接旁路通过,会造成整套 AMC 系统形同虚设,项目验收不达标,施工阶段必须做好检漏密封。

④ 做好寿命管理,定期监测

AMC 过滤器无法肉眼判断饱和,需要定期检测进出口气体浓度,判断滤料剩余寿命,及时更换;不要等到产品良率明显下降再排查问题。

⑤ 不要混淆颗粒物过滤与分子过滤

HEPA 只除尘,不能去除 AMC;不要认为洁净等级达标就等于 AMC 达标。

五、适用行业场景

  • 半导体、先进封装、晶圆制造:5‑28nm 等先进工艺,光刻、薄膜、刻蚀车间;

  • 显示面板、Mini‑OLED,防止有机挥发物造成显示不良;

  • 锂电池、光伏新能源洁净车间,保障材料批次稳定性;

  • 精密光学、镀膜实验室,保护镜头、光学元器件不被腐蚀;

  • 医药 GMP 洁净厂房,降低空气中气态杂质对药品质量干扰。

六、总结

AMC 治理不是单一设备,而是整套系统工程,空调箱 MAU 新风端是整套管控最重要第一道防线。干式化学过滤是高精度达标核心方案;水洗洗涤可以作为预处理,同时完成车间加湿;两者合理组合,配合循环空调箱过滤、FFU 末端微环境防护,形成完整三级防控体系,把 AMC 控制在工艺允许范围内,稳定产品良率,减少异常报废,保障洁净厂房长期稳定运行。


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